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GB/T 14141-2009硅外延層、擴(kuò)散層和離子注入層薄層電阻的測(cè)定 直排四探針?lè)?/h3>

發(fā)布時(shí)間: 2023-08-23 13:31:04 點(diǎn)擊: 302

GB/T 14141-2009硅外延層、擴(kuò)散層和離子注入層薄層電阻的測(cè)定 直排四探針?lè)?br /> 規(guī)定了使用直排四探針?lè)y(cè)定硅外延層、擴(kuò)散層和離子注入層薄層電阻的方法。該標(biāo)準(zhǔn)適用于半導(dǎo)體器件和材料中硅外延層、擴(kuò)散層和離子注入層的薄層電阻測(cè)量。

根據(jù)標(biāo)準(zhǔn),測(cè)試設(shè)備應(yīng)包括直排四探針測(cè)試儀、夾具、電源和測(cè)量?jī)x器等。測(cè)試時(shí),將待測(cè)樣品放在夾具上,然后將直排四探針接觸到樣品表面,并施加一定的電壓,測(cè)量樣品的電流值。通過(guò)測(cè)量多個(gè)點(diǎn),可以得到樣品的薄層電阻分布情況。

該方法的優(yōu)點(diǎn)是不需要?jiǎng)冸x樣品,不會(huì)對(duì)樣品造成損*傷,測(cè)試速度較快,適合于自動(dòng)化測(cè)試。但需要注意的是,測(cè)試結(jié)果受到探針與樣品接觸電阻、測(cè)試環(huán)境的溫度和濕度等因素的影響。因此,在進(jìn)行測(cè)試時(shí),需要控制測(cè)試條件并采取必要的修正措施,以保證測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性。

總之,GB/T 14141-2009標(biāo)準(zhǔn)提供了使用直排四探針?lè)y(cè)定硅外延層、擴(kuò)散層和離子注入層薄層電阻的方法,對(duì)于評(píng)估半導(dǎo)體器件和材料的電性能具有重要意義。
直排四探針?lè)ㄊ且环N常用的測(cè)試方法,用于測(cè)量半導(dǎo)體材料的電阻率。該方法使用四個(gè)探針按照直線排列,直接接觸材料的表面進(jìn)行測(cè)試。

直排四探針?lè)ǖ膬?yōu)點(diǎn)包括:

測(cè)試速度快,適合于批量測(cè)試。
對(duì)樣品的要求較低,不需要進(jìn)行特殊處理。
測(cè)量結(jié)果受樣品形狀和尺寸的影響較小。
直排四探針?lè)ǖ臏y(cè)試原理是基于歐姆定律,通過(guò)測(cè)量探針之間的電壓和電流來(lái)計(jì)算材料的電阻率。具體來(lái)說(shuō),將四個(gè)探針按照直線排列,分別與材料接觸,然后通過(guò)電源向材料施加一定的電流,同時(shí)測(cè)量材料兩端的電壓。根據(jù)歐姆定律,可以計(jì)算出材料的電阻率。

需要注意的是,直排四探針?lè)ㄖ荒軠y(cè)量材料的平均電阻率,無(wú)法測(cè)量材料的局部不均勻性和突變。此外,測(cè)試結(jié)果受到探針與材料接觸電阻、測(cè)試環(huán)境的溫度和濕度等因素的影響。因此,在進(jìn)行測(cè)試時(shí),需要控制測(cè)試條件并采取必要的修正措施,以保證測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性。